Patent

2014 - 1

  • 유기재료 패턴 형성 장치 및 이를 이용한 유기재료 패턴 형성 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1402831

    • ​등록일자 : 2014/05/27

  • 저분자 물질 제거를 통한 고분자 박막의 전기적 성질의 향상 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1455498

    • ​등록일자 : 2014/10/21

2014 - 2

2016 - 1

  • 폴리사이오펜 박막의 분자결정성 향상 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1592733

    • ​등록일자 : 2016/02/01

2016 - 2

  • 말단이 티에닐기로 캡핑된 유기 반도체 고분자 화합물을 포함하는 유기 전계효과 트랜지스터

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1611124

    • ​등록일자 : 2016/04/04

2016 - 3

  • 연속 용매코팅을 이요한 폴리사이오펜 박막의 구조적, 전기적 특성 향상 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1625752

    • ​등록일자 : 2016/05/04

2016 - 4

  • 열처리를 이용한 폴리사이오펜 박막의 금속 전극 계면 간의 접촉 특성 향상방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1653091

    • ​등록일자 : 2016/08/25

2016 - 5

  • 냉각속도 조절을 통한 폴리사이오펜 박막의 열처리 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1664664

    • ​등록일자 : 2016/10/04

2017 - 1

  • 스핀코팅을 이용한 반도체 고분자 박막의 형성 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1720425

    • ​등록일자 : 2017/03/21

2017 - 2

  • 유기박막 트랜지스터용 PEDOT:PSS 전극의 제조방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1732814

    • ​등록일자 : 2017/04/26

2017 - 3

  • 한계성 용매 처리에 의한 얇은 막에서의 분자 결정성 향상방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1804046

    • ​등록일자 : 2017/11/27

2018 - 1

2018 - 1

  • 고분자로 표면이 후처리된 리튬이차전지용 양극

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1854076

    • ​등록일자 : 2018/04/25

  • 고분자로 표면이 후처리된 리튬이차전지용 양극

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1854076

    • ​등록일자 : 2018/04/25

2018 - 2

  • 고분자로 코팅을 통한 리튬이차전지용 양극의 표면 후처리 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1875325

    • ​등록일자 : 2018/06/29

2019 - 1

  • 잔류용매 증발 조절을 통한 폴리사이오펜 박막의 초음파처리-매개 자기조립 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1936496

    • ​등록일자 : 2019/01/02

2019 - 2

  • 잔류용매 증발 조절을 통한 폴리사이오펜 박막의 초음파처리-매개 자기조립 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-1990740

    • ​등록일자 : 2019/06/12

2019 - 3

  • 2상 딥코팅용 조성물 및 이를 이용한 고분자 박막의 형성 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-2039234

    • ​등록일자 : 2019/10/25

2020 - 1

  • 비용매 플로팅법을 이용한 고분자 박막의 형성방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-2108625

    • ​등록일자 : 2020/04/29

2020 - 2

  • 금속-유기 골격체를 포함하는 습도 감지용 트랜지스터 및 수분흡착 특성을 갖는 유기 반도체 조성물

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-2172958

    • ​등록일자 : 2020/10/27

2020 - 3

  • 물을 포함하는 2상 딥코팅용 조성물 및 이를 이용한 고분자 박막의 형성 방법

    • ​구분 : 등록

    • 특허국가 : 대한민국

    • 특허번호 : 10-2172962

    • ​등록일자 : 2020/10/27